小圆靶ITO、ITO、武汉鑫融
产品规格:RPD专用铟.锡氧化物(ITO)靶
1.产品主要用途
RPD蒸镀制备透明导电膜
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式:In2O3/SnO2
2.2外 观:绿色
2.3 晶粒度:5~15μm
2.4相对密度:60%±2%
2.5杂质含量:≤500ppm
3.产品检测方法
3.1晶粒度:扫描电镜(SEM)观察;
3.2纯度:ICP—AES分析测试杂质含量;
3.3 密度:手测法(千分尺、分析天平);
团队发展历史
2006年,武汉高纯金属材料技术服务中心,小圆靶ITO,在3位金属材料博士的努力和各界朋友鼎力支持下在武汉成立,宗旨是高纯金属材料研发生产技术交流,ITO,促进合作。
2007年,新能源技术交流服务中心成立。
2010年,ITO粉末,为了适应市场需要,武汉鑫融新材料有限公司成立。
2010年,公司目标致力于成为国内专业的高纯金属材料和新能源材料的“精细功能材料服务商”。
2013年,公司走出国门,ITO小圆靶材,开展与国外高新技术企业交流合作,提升“中国制造”技术含量。
2014年,公司自主开发、经营几十种高纯金属材料及其化合物。产品有碲、铟、镓、锑、镉、硒、铋、锗、锡等各种稀土、过渡金属材料单质及其化合物、靶材,纯度为99%-99.99999%。
分类
根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电**材、磁记录靶材、光碟靶材、**靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
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