武汉鑫融(图)|ATO靶材|ATO
各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。ATO。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类
碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%
镉 99.999%-99.9999%-99.99999%
锌 99.999%-99.9999%-99.99999%
硒 99.99%-99.999%-99.9999%
铟 99.999%-99.9999%
锑 99.99%-99.999%
铋 99.999%-99.9999%
锗 99.999%-99.9999%
镓 99.99%-99.999%
产品规格:氧化铟靶
1.产品主要用途
磁控溅射制备TCO透明导电膜。
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3
2.2 晶粒度：5~15μm
2.3相对密度：≥95%
2.4纯 度：≥99.99%
3.产品检测方法
3.1纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
硒化锌99.99%-99.999%
硒化锡99.99%-99.999%
硫化锌99.99%-99.999%
硫化锡99.99%-99.999%
硫化铜 99.99%-99.999%
硫化镉 99.99%-99.999%
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