ATO、武汉鑫融、粉体ATO
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。
氧化铟锡99.99%-99.999%
二氧化碲99.99%-99.999%
二氧化锡99.99%-99.999%
二氧化硒99.99%-99.999%
三氧化二镓99.99%-99.999%
三氧化二锑99.99%-99.999%
三氧化二铋 99.999%-99.9999%
三氧化二铟 99.999%-99.9999%
显示器用平面显示器(FPD) 这些年来大幅冲击 以阴极射线管 (CRT) 为主的电脑显示器及电视机市场,ATO,亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的i T O靶材有两种.一 种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结,蓝色粉体ATO,一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用 直流反应溅射制造 I T O薄膜,但是靶表面会氧化而影 响溅射率,并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取一种方法生产 I T O 靶材,利用 L } I R F反应溅射镀膜. 它具有沉积速度快.且能精加确控制膜厚,粉体ATO,电导率高,薄膜的一致性好,与基板的附着力强等优点 l。
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