小圆靶低密度、武汉鑫融(在线咨询)、小圆靶
靶材制作困难,小圆靶IZO,这是因为氧化铟和 氧化锡不容易烧结在一起。一般采用 Z r O2 、B i 2 O 3 、 C e O 等作为烧结添加剂,能够获得密度为理论值的 9 3 %~9 8 %的靶材,ITO小圆靶,这种方式形成的 I T O薄膜的性能 与添加剂的关系极大。日本的科学家采用 B i z o 作为 添加剂,B i 2 O3 在 8 2 0 C r 熔化,在 l 5 0 0℃的烧结温度超出部分已经挥发,小圆靶,这样能够在液相烧结条件下 得到比较纯的 I T O靶材。
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。
氧化铟锡99.99%-99.999%
二氧化碲99.99%-99.999%
二氧化锡99.99%-99.999%
二氧化硒99.99%-99.999%
三氧化二镓99.99%-99.999%
三氧化二锑99.99%-99.999%
三氧化二铋 99.999%-99.9999%
三氧化二铟 99.999%-99.9999%
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