低密度小圆靶_小圆靶_武汉鑫融
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，小圆靶IZO，硼化物等。
氧化铟锡99.99%-99.999%
二氧化碲99.99%-99.999%
二氧化锡99.99%-99.999%
二氧化硒99.99%-99.999%
三氧化二镓99.99%-99.999%
三氧化二锑99.99%-99.999%
三氧化二铋 99.999%-99.9999%
三氧化二铟 99.999%-99.9999%
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、**铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，低密度小圆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，小圆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶**钽，**铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，ITO小圆靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
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