IZO小圆靶_小圆靶_武汉鑫融
各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类
碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%
镉 99.999%-99.9999%-99.99999%
锌 99.999%-99.9999%-99.99999%
硒 99.99%-99.999%-99.9999%
铟 99.999%-99.9999%
锑 99.99%-99.999%
铋 99.999%-99.9999%
锗 99.999%-99.9999%
镓 99.99%-99.999%
磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，小圆靶，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，IZO小圆靶，除可溅射导电材料外，小圆靶IWO，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。
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