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存储用
在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,小圆靶IWO,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,小圆靶低密度,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构,小圆靶, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,小圆靶IZO,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l 抗电强度。
各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。分类
碲99.99%-99.999%-99.9999%-99.99999%
镉 99.999%-99.9999%-99.99999%
锌 99.999%-99.9999%-99.99999%
硒 99.99%-99.999%-99.9999%
铟 99.999%-99.9999%
锑 99.99%-99.999%
铋 99.999%-99.9999%
锗 99.999%-99.9999%
镓 99.99%-99.999%
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