粉体靶材、靶材、武汉鑫融(查看)
应用领域
众所周知，靶材材料的技术发展趋势与下游应用 产业的薄膜技术发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。如Ic制造商．近段时间致力于低电阻率铜布线的开发， 预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜，粉体靶材，这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外，ITO靶材，近 年来平面显示器（F P D）大幅度取代原 以阴极射线管（CRT）为主的电脑显示器及电视机市场．亦将大幅增 加ITO靶材的技术与市场需求。此外在存储技术方面。高密度、大容量硬盘，高密度的可擦写光盘的需求持 续增加． 这些均导致应用产业对靶材的需求发生变化。下面我们将分别介绍靶材的主要应用领域，IZO靶材，以及这些领域靶材发展的趋势。
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，靶材，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。
氧化铟锡99.99%-99.999%
二氧化碲99.99%-99.999%
二氧化锡99.99%-99.999%
二氧化硒99.99%-99.999%
三氧化二镓99.99%-99.999%
三氧化二锑99.99%-99.999%
三氧化二铋 99.999%-99.9999%
三氧化二铟 99.999%-99.9999%
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