IWO靶材、靶材、武汉鑫融(查看)
锑、锡氧化物(ATO)纳米粉体
主要用途
防红外隔热涂料等
团队发展历史
2010年,IWO靶材,公司目标致力于成为国内专业的高纯金属材料和新能源材料的“精细功能材料服务商”。
2013年,公司走出国门,开展与国外高新技术企业交流合作,提升“中国制造”技术含量。
2014年,公司自主开发、经营几十种高纯金属材料及其化合物。产品有碲、铟、镓、锑、镉、硒、铋、锗、锡等各种稀土、过渡金属材料单质及其化合物、靶材,纯度为99%-99.99999%。
2015年,公司为客户定制各种高端化学原材料,为客户提供定**务。截止2015年,公司客户遍布中国、美国、英国、澳大利亚、法国、**、日本、韩国等26个国家,靶材IWO,已成功跻身高端高纯金属材料国际主流供应商
物理及化学特性
化学式:SnO2/Sb2O3
外 观:蓝色
比表面积:60~86m2/g
颗粒度:7~15nm
杂质含量:≤300ppm
产品检测方法
3.1颗粒度:GB13390粉末比表面的测定 —氮吸附法(BET),结合透射电镜(TEM)观察;
3.2纯度:ICP—AES分析测试杂质含量;
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,2013年的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,靶材粉体,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,靶材,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
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