粉体靶材_靶材_武汉鑫融(查看)
产品规格:氧化铟靶
1.产品主要用途
磁控溅射制备TCO透明导电膜。
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3
2.2 晶粒度：5~15μm
2.3相对密度：≥95%
2.4纯 度：≥99.99%
3.产品检测方法
3.1纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
硒化锌99.99%-99.999%
硒化锡99.99%-99.999%
硫化锌99.99%-99.999%
硫化锡99.99%-99.999%
硫化铜 99.99%-99.999%
硫化镉 99.99%-99.999%
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，2013年的蒸发镀膜方式，粉体靶材，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，IZO靶材，磁控溅射已经被应用于许多领域。
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，靶材，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
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