靶材|靶材IWO|武汉鑫融(优质商家)
产品规格:铟.锡氧化物（ITO）旋转靶
1.产品主要用途
真空磁控溅射制备ITO导电玻璃及柔性ITO导电膜
2.1 化学式：In2O3/SnO2
2.2外 观：黑色管状陶瓷
2.3纯 度：≥99.99%
2.4 晶粒度：5~15μm
2.5相对密度：≥99.5 %
2.6 电阻率：<1.2×10-4Ω·cm
2.7热胀系数：5.8×10-6K-1
3.产品检测方法
3.1晶粒度：扫描电镜（SEM）观察；
3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
3.3 密度：排水法；
公司概况
武汉鑫融新材料有限公司是一家专注高端高纯金属材料研发、生产的科技公司，靶材IWO，我们具有十年研发生产经验，目前公司客户遍布中国、美国、英国、澳大利亚、法国、**、日本、韩国等26个国家。
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金属靶材是用于溅射镀膜：
通常将欲沉积的材料制成板材──靶，靶材，固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，ITO靶材，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。
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