武汉鑫融(图)、靶材低密度、靶材
应用领域
众所周知，靶材材料的技术发展趋势与下游应用 产业的薄膜技术发展趋势息息相关，随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进，小圆靶，靶材技术也应随之变化。如Ic制造商．近段时间致力于低电阻率铜布线的开发，靶材， 预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜，靶材低密度，这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外，近 年来平面显示器（F P D）大幅度取代原 以阴极射线管（CRT）为主的电脑显示器及电视机市场．亦将大幅增 加ITO靶材的技术与市场需求。此外在存储技术方面。高密度、大容量硬盘，高密度的可擦写光盘的需求持 续增加． 这些均导致应用产业对靶材的需求发生变化。下面我们将分别介绍靶材的主要应用领域，以及这些领域靶材发展的趋势。
产品规格:铟.钨氧化物（IWO）低密度小圆靶
1.产品主要用途
用于太阳能行业，制备透明导电膜
2.产品的物理及化学特性
2.1 化学式：In2O3/WO3
2.2 外 观：绿色
2.3 晶粒度：6~10μm
2.4 相对密度：60%±2%
2.5 杂质含量：≤500ppm
3.产品检测方法
3.2纯度：ICP—AES分析测试杂质含量；
武汉鑫融新材料有限公司公司拥有完整的研发、生产、销售、服务体系，是国内高端高纯金属材料行业出货量大的企业之一。公司通过不断提升的综合实力，已成功跻身高端高纯金属材料国际主流供应商。
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