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磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，靶材工厂，2013年的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
靶材的定义：金属靶材，销售靶材，是属于靶材的范畴，靶材就是镀膜用的基底，不同的靶材镀不同的膜，比如液晶显示器，平板电脑就是用的ITO靶材，ITO靶材是金属氧化物靶材，靶材，还有AZO靶材，等等，用于镀膜，手机膜，电脑膜，镀好的膜不是像玻璃那样用的，比如ITO膜在液晶显示器中作为阳极使用，要导电性好，透光性好，一个显示器的膜是有好几层的，金属靶材同样的道理，用于镀膜，生产的话，方法就多了，靶材批发，比如铌靶是在惰性气体气氛下，高温气氛烧结过程中，加压成型，而ITO靶材和AZO靶材就可以粉浆浇筑和模压成型。
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