H-CAP铝电解电容|苏州海之源电子(在线咨询)|电容
铝电解电容的制作步骤
氧化膜形成工艺。
第二步：铝箔通过电化腐化后，就要运用化学方法，将其外观氧化成三氧化二铝——也便是铝电解电容的介质。在氧化之后，要仔细检讨三氧化二铝的外观，看是否有雀斑也许龟裂，将不足格的清除在外。 第三步：铝箔的切割。这个措施很简单明白。便是把一整块铝箔，切割成几多小块，使其适当电容制造的必要。
1、铝电解电容器
用浸有糊状电解质的吸水纸夹在两条铝箔中间卷绕而成，H-CAP电容，薄的化氧化膜作介质的电容器.因为氧化膜有单向导电性质，所以电解电容器具有极性.容量大，能耐受大 的脉动电流，容量误差大，泄漏电流大；普通的不适于在高频和低温下应用，不宜使用在25kHz以上频率低频旁路、信号耦合、电源滤波。
电容量：0.47～10000u
额定电压：6.3～450V
主要特点：体积小，容量大，损耗大，漏电大
应用：电源滤波，H-CAP铝电解电容，低频耦合，去耦，旁路等。
电解电容的工作温度
工作温度：电容器的特性随着工作温度的变化而变化。这种变化是正常的，电容，当温度恢复后电容性能也将恢复。如果工作温度大于保证温度范围时，电容器的性能指标不能得到保证，并且实际使用温度每升高10℃，电容器的寿命就缩短一半。
焊接：使用电烙铁焊锡时，铝电解电容，电烙铁请勿靠近或接触电容器本身，以免因高温而使电容器之塑料管变形或破裂。如以焊锡炉自动焊接时应在260℃，浸入时间请勿超过10秒钟，以免电容器内部过热而受损。
额定值与特性:标称容量允许偏差-20%~+20%；额定工作温度范围：-40℃~+105℃。
H-CAP铝电解电容|苏州海之源电子(在线咨询)|电容由苏州海之源电子有限公司提供。H-CAP铝电解电容|苏州海之源电子(在线咨询)|电容是苏州海之源电子有限公司（www.h-cap.cn）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：刘洋。
