平面靶材、靶材、众诚达应用材料公司(查看)

 深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的靶材，应用于平板显示行业。平面显示器（FPD) 这些年来大幅冲击 以阴极射线管 (CRT) 为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的i T O靶材有两种．一 种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用 直流反应溅射制造 I T O薄膜，但是靶表面会氧化而影 响溅射率，并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取**种方法生产 I T O 靶材 平面靶材，利用 L } I R F反应溅射镀膜． 它具有沉积速度快．且能**控制膜厚，电导率高，薄膜的一致性好，与基板的附着力强等优点 l。但是靶材制作困难，这是因为氧化铟和 氧化锡不容易烧结在一起。一般采用 Z r O2 、B i 2 O 3 、 C e O 等作为烧结添加剂，能够获得密度为理论值的 9 3 %~9 8 %的靶材 溅镀靶材，这种方式形成的 I T O薄膜的性能 与添加剂的关系极大。

 深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售磁控溅射用的靶材，在PVD中 靶材，根据膜层沉积方法又可以再细分为：蒸发整镀、溅射镀和离子镀。蒸发整镀主要运用于光学和塑胶领域，是真空镀**早应用的方法。溅射镀兴起主要是在20世纪70年代后期，以磁控镀膜技术为代表，在大面积镀幕墙玻璃上面获得**的应用，其次是电子线路坂和各种磁介质记录膜层。离子镀则主要应用于刀具和阻热膜等，特别是航太发动机外涂层，必须通过真空电镀才能获得理想的耐温阻热效果。

 深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的靶材，金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材 单质靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），砷化铅靶材（PbAs），砷化铟靶材（InAs）。