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蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜 灯具镀膜加工，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点： (1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 (2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。 (4)靶材输入电流及溅射时间可以控制 灯具镀膜加工厂，容易得到高精度的膜厚。 (5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。 (6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。 (7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上 灯具镀膜，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。 (8)薄膜形成初期成核密度高，可生产10nm以下的极薄连续膜。 (9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。 (10)靶材可制作成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及**有效率的生产。水镀的镀层厚度比真空镀厚，耐磨性也比真镀好
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 一、镀膜的方法及分类 在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞 顺德灯具镀膜，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
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