因此,硅片表面摩擦长度的分布状态和压强的分布状态决定了工作表面材料去除的状态,而研究表明硅片抛光接触区域的压强一般沿硅片半径方向增加,并且由于加工中有背垫时接触压强的分布仍存在不均匀性,在工件外径邻域内接触压强**,这导致了被加工工件产生平面度误差与塌边。增加背垫的弹性模量和泊松比,可以改善接触表面城市强分布均匀性,使工件有效区域的平面度形貌变得更好。。通过使用聚氨酯泡沫垫并控制其上的加载压力能够使晶片稳定达到较高的平面度。这进一步说明抛光对双面研磨/抛光加工晶片平面度的影响是主导性。利用固着磨料研磨的这一特点,根据工件磨具间的相对运动轨迹密度分布,合理地设计磨具上磨料密度分布,以使磨具在研磨过程中所出现的磨损不影响磨具面型精度,从而显著提高工件的面型精度,并且避免修整磨具的麻烦。在平面固着磨料研磨中,磨具的旋转运动是主运动,工件的运动是辅助运动。在大部分情况下,工件是浮动压在磨具上,其运动规律是未知的。因此,要对工件受力进行分析,才能求出其受力状态及运动规律。取工件为整个研磨系统的分离体,建立工件受力平衡微分方程,求解该方程就能得到工件的运动规律。河北双面研磨机,吉林双面研磨机厂家,昭远矿山机械由锦州昭远矿山机械有限公司(www.smymj.net)提供。