关于薄膜的应用参数

使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧化铈，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜， 多名称：氧化镁（MgO)必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好的紫外线（UV）穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06， 166nm时K值为0.1， n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内（由于膜应力）500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰，MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。硫化锌名称：硫化锌（ZnS)折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和良好的环境耐久性， ZnS在高温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层，因此需要彻底清炉，并且在**高温度下烘干，花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线（UV）对ZNS有较大的影响，由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO）。透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 方式400--14000 2.35 1000--1100 电子枪，钽钼舟 防反膜， 升华应有：分光膜，冷光膜，装饰膜，滤光片，高反膜，红外膜.二氧化钛名称：二氧化钛（TiO₂)TiO₂由于它的高折射率和相对坚固性，人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti，这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层，比率为2的材料**层产生一个大约2.06的折射率，后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性，几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则：在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性，这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.Ti3O5比其它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些，PULKER等人指出，**的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63，可是由于别的原因，高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免（因为有吸收则降低透过率），但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值（LDT).TiO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题，所以在可见光和近红外线光谱中，TiO2很受到人们的欢迎. 在IAD助镀TiO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV，而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%，如果离子能量超过以上数值，TiO2将有吸收.而SiO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞（离子辐射）能量而没有什么不良效应. TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO₂用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状和白色片状，熔点：1175℃透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量400--12000 2.35 2000-2200 电子枪，防反膜，增透 多TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜氟化钍名称：氟化钍（ThF4）260-12000nm以上的光谱区域，是一种**的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38（1000nm区域）在短波长趋近于1.6，蒸发温度比MGF2低一些，通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收，这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性，在8000到12000NM完全没有材料可以替代.二氧化硅名称： 二氧化硅（SiO2）经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在.SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量200--2000 1.46 1800-2200 电子枪，防反膜，增透 少，升华无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等.一氧化硅名称： 一氧化硅（SiO)透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量600--8000 1.55 at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 电子枪，钽钼舟 冷光膜装饰膜保护膜，升华制程特性：棕褐色粉状或细块状.熔点较低，可用钼舟或钛舟蒸发，但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华.使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法.制备塑料镜片时，一般**层是SiO，可以增加膜的附着力.名称：OH-5(TiO2+ZrO2）透光范围（nm) 折射率（N)550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量300--8000 2.1 约2400 电子枪，增透 一般蒸气成分为：ZrO,O2,TiO,TiO2呈褐色块状或柱状尼康公司开发之专门加TS--ェート系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸发速率，氧气压力的影响很大，蒸镀时不加氧或加氧不充分时，制备薄膜会产生吸收现象，但是我们在实际应用时没有加氧也比较好用.