SiAl靶_众诚达应用材料公司(在线咨询)_靶

深圳众诚达随着应用市场对性能要求不断提升，众诚达研发研究院不断研发升级产品，满足客户订单越来越高的订单要求。近几年来众诚达公司在主动服务上作了不少新的探索和尝试，先后开发出旋转AZO靶材，靶，旋转多晶硅靶材帮定等先进工艺与产品。

深圳市众诚达应用材料科技有限公司     地址：深圳市宝安区航城大道广豪锋科技园 产品主要应用于薄膜太阳能、平板显示、建筑工程玻璃、光学镀膜、装饰与功能镀膜、半导体磁存储与电阻等科技领域。

众诚达公司烧结炉全部是进口设备，NiCr靶，并结合自身工艺进行设计，烧结炉热稳定性强，炉内各方向温度差不超过20°。这种炉体烧制的靶材密度高，机械强度高，颜色一致性好。超高温烧结使靶材脱氧充分，导电性强，适合大功率溅射，而且靶材粉尘量少。

公司产品包括陶瓷靶材：一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2，SiAl靶，三氧化二钇靶Y2O3、**钽靶Ta2O5，**铌靶Nb2O5，氧化锌靶ZnO、氧化锆靶ZrO、氧化镁靶MgO， ITO靶In2O3+SnO2、单晶硅靶Sc-Si、多晶硅靶.Ac-Si、氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、氟化锂靶LiF、氟化钡靶BaF3，碳化硼靶B4C，氮化硼靶B4N、碳化硅靶SiC，硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、硒化锌靶ZnSe、砷化镓靶、磷化镓靶、锰酸锂靶，镍钴酸锂靶，钽酸锂靶，铌酸锂靶，氧化锌镓靶，氧化锌硼靶等…  

纯度：《99.9%—99.999%》根据客户要求加工成各种规格尺寸的靶材。

    深圳市众诚达应用材料科技有限公司主要生产经营磁控溅射镀膜靶材和靶材绑定。溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，AZO靶，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。