首页> 青岛福润德微电子设备有限公司|扩散炉 |扩散炉炉体 > 新闻动态> 扩散炉的应用

更新时间: 2023/6/27 5:32:03

   扩散炉用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。  扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂,即将元素磷、硼扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。  扩散炉**的低压磷扩散利用低压氛围可以得到更好的方块电阻均匀性和更大的生产批量,同时对环境的影响**小。  扩散炉的氧化工艺是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应,生长一层二氧化硅膜。  扩散炉的氧化方法有干氧和湿氧,湿氧包括水汽氧化和氢氧合成两种。

  以上就是扩散炉的应用,希望能够给您带来帮助。

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