广州反应磁控溅射用处 广东省科学院半导体研究所供应

PVD技术常用的方法：PVD基本方法。真空蒸发、溅射，广州反应磁控溅射用处、离子镀，以下介绍几种常用的方法，广州反应磁控溅射用处。电子束蒸发：电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。特征：真空环境；蒸发源材料需加热熔化；基底材料也在较高温度中；用磁场控制蒸发的气体，从而控制生成镀膜的厚度。溅射沉积：溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多，有直流溅射、RF溅射和反应溅射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射，广州反应磁控溅射用处、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。磁控溅射方法在装饰领域的应用：如各种全反射膜和半透明膜；比如手机壳、鼠标等。广州反应磁控溅射用处磁控溅射靶材的原理如下：在被溅射的靶极与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的