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张家港晋宇达电子科技有限公司
光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产**提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。
所谓光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻,而不影响光刻工艺的质量。
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Nikon系列光刻机中,掩膜版的直角坐标系统、硅片的直角坐标系统、硅片上曝光成像图形的坐标系统以及硅片工作台的直角坐标系统,掩膜版坐标系统的原点是掩膜版的中心,陶瓷手臂生产,硅片坐标系统的原点是硅片的中心位置,而硅片上曝光成像图形的中心,陶瓷手臂,亦即该坐标系统的原点是掩膜版中心在硅片上投影成像点的位置。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻机品牌位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。目前正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
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